Формирование слоистых структур на поверхности кремния: влияние плотности тока анода, субстратов Si и времени обработки на морфологию и свойства получаемых структур

Тип работы: Дипломная работа
Бесплатно: Антиплагиат
Объем: 53 страниц
В избранное:

Внимание:

Автоматический переведенный текст;
Закрыт для публичного просмотр;
Имеет большие шансы пройти антиплагиат.

Похожие работы

Механизмы Формирования Пористой Структуры Кремния при Электрохимической и Химической Обработке: Влияние Типа Кремниевого Субстрата, Плотности Тока и Концентрации HF на Морфологию Получаемых Микроструктур

Многогранные области применения и перспективы разработки силовых устройств на основе широкозонных полупроводниковых материалов SiC и GaN в различных отраслях промышленности и энергетики

Оптические свойства свободных зарядных переносчиков на тонких оболочках окиси серы и влияние локализованных состояний запретной зоны

Методы получения наноструктур кремния и их свойства в микроэлектронике

Нанокристаллический кремний: структура, свойства и области применения

Квантовые точки и нити: структура, свойства и приложения

Квантовые точки и гетероструктуры: свойства и приложения в нано- и оптоэлектронике

Имплантация нанокристаллов в диэлектрических материалах: свойства и приложения

Морфологические особенности формирования оксидных структур на поверхности алюминия при анодировании в зависимости от параметров электролита и примесей

Исследование свойств и поведения фуллеренов при высоких давлениях: полимеризация, металлизация и биологическая активность

Дисциплины

Информация

Дополнительно

Email: info@stud.kz